小型真空爐

　　小型真空爐基本結構組成：

　　1、加熱區爐膛采用上下兩部分結構，其中上部爐膛可整體向后翻轉90°，方便保護管的觀察和取放。

　　2、爐膛材料采用進口陶瓷纖維，溫場均衡、表面溫度低、升溫速率快、節能等優點；

　　3、電熱元件采用進口高電阻合金絲或硅碳棒；

　　4、爐體兩端采用不銹鋼密封法蘭，耐高溫、耐腐蝕；

　　5、保護管采用石英管或耐熱鋼金屬管，旋轉速度 3-20r/min,可根據需要手動調節；

　　6、爐體可遠程遙控傾斜30°；

　　7、爐體采用雙層空氣隔熱技術，配有自動冷卻風扇，降低爐體外殼溫度；

　　8、控制系統采用進口40段程序控溫，控溫精度±1℃，移相觸發、可控硅控制；

　　9、可以采用單溫區、多溫區控制；

　　10、鉸鏈式的加熱腔體設計，可以方便地取出和插入實驗容器；

　　性能特點：

　　1.采用高純石英管或高純氧化鋁管作為爐管，工作溫度區間可達到800℃至1200℃。

　　2.小型真空爐以進口硅碳棒為加熱元件，采用雙層殼體結構和智能化程序控溫系統，移相觸發，可控硅控制。

　　3.爐膛采用氧化鋁多晶體纖維材料，雙層爐殼間配有風冷系統，能快速升降溫。

　　4.真空泵可以根據客戶要求的真空度選配。

　　5.安全可靠，操作簡單，控溫精度高，保溫效果好，爐膛溫度均勻性高。

　　6.且具有溫場均衡、表面溫度低、升降溫度速率快、節能等優點。

　　實驗室小型真空爐 氣體保護下燒結氮氣爐常規爐膛尺寸（mm）

　　100x100x100，200x150x150

　　300x200x200，400x300x300，500x400x400

　　小型真空爐構造：

　　爐體：爐體通常由高溫耐火材料制成，如陶瓷或石墨，以承受高溫和真空環境。

　　真空系統：真空系統包括一個抽氣裝置和一個真空測量儀器，用于將爐體內的空氣抽出并維持低氣壓。

　　控制系統：控制系統主要用于控制加熱系統的溫度和真空系統的壓力。此外，控制系統還可以控制爐體的開關和運行狀態。

　　樣品架：樣品架用于放置需要進行處理的材料。同時，真空系統可以將爐體內的空氣抽出，降低氣壓，從而減少材料在高溫下與氧氣接觸的機會，避免氧化和燃燒等反應的發生。

　　在使用小型真空爐時，需要注意以下事項：

　　安全問題：小型真空爐在運行過程中會產生高溫和真空環境，如果不正確使用，可能會對人體造成傷害。

　　真空系統的維護：真空系統是小型真空爐的關鍵部分，需要定期進行維護和保養。

　　爐體內氣氛的控制：在小型真空爐的運行過程中，爐體內氣氛的控制非常重要。同時，需要保證樣品的干燥和清潔，以避免在處理過程中出現意外情況。在使用小型真空爐時，需要注意安全問題、真空系統的維護、加熱系統的維護、爐體內氣氛的控制以及樣品的選擇和處理等方面。只有正確使用小型真空爐，才能實現其最大的應用價值。

 *其他規格型號可以定制
小型真空爐是真空技術與熱處理技術相結合的新型熱處理技術，真空熱處理所處的真空環境指的是低于一個大氣壓的氣氛環境，包括低真空、中等真空、高真空和 真空，真空熱處理實際也屬于氣氛控制熱處理。真空熱處理是指熱處理工藝的全部和部分在真空狀態下進行的，與常規熱處理相比，真空熱處理的同時，可實現無氧化、無脫碳、無滲碳，可去掉工件表面的磷屑，并有脫脂除氣等作用，從而達到表面光亮凈化的效果。

規格參數：