真空高溫爐

真空高溫爐常規型號                          

SG-XS1200 高溫度1200℃  SG-XS1400 高溫度1400℃

SG-XS1700 高溫度1700℃  SG-XS1800 高溫度1800℃

常規爐膛尺寸（mm）    

100x100x100，200x150x150

300x200x200，400x300x300，500x400x400

 *其他馬弗爐型號可以定制

　　真空高溫爐是一種專業的試驗設備，主要用于進行高溫處理、熱處理、熔煉、退火、固相反應、化學蒸汽沉積、薄膜制備等工藝的實驗研究，廣泛應用于材料科學、化工、機械、電子、能源等領域。下面我們將詳細介紹真空高溫爐的應用。

　　一、高溫處理和熱處理

　　高溫處理和熱處理是真空高溫爐最主要的應用領域之一。高溫處理是指將樣品置于高溫環境下，以改變其組織結構和材料性能的方法。真空高溫爐可以達到1500℃以上的高溫，是進行高溫處理的理想設備。高溫處理可以改變材料的結晶形態和結構，從而提高材料的硬度、韌性、抗拉強度、耐磨性等性能。常見的高溫處理方法有固溶處理、時效處理、再結晶等，這些方法廣泛應用于航空、汽車、核電等領域的新材料研究。

　　熱處理是一種針對特定材料，通過加熱和冷卻來改變其性能和組織的方法。真空高溫爐是進行熱處理的理想設備，可以控制爐內溫度、壓力和氣氛，避免材料與氧氣等氣體接觸而發生氧化反應。熱處理可以改善金屬的機械性能、耐熱性能、抗腐蝕性能，提高金屬的耐磨性、韌性等。常見的熱處理方法有正火、淬火、回火等，這些方法廣泛用于鋼鐵、鋁合金、銅合金、鎳合金等金屬材料的制造。

　　二、熔煉和固相反應

　　真空高溫爐可以用于熔煉和固相反應的實驗研究。熔煉是指將固體樣品熔化后，通過調節溫度和液態合金成分的方法，使材料達到理想的組成和性能。真空高溫爐可以提供密封的高溫環境，防止材料與外界氣體接觸，從而保證熔化過程中的材料組成和性能。熔煉通常用于制備合金材料或者復合材料，廣泛應用于航空、汽車、超導等領域。

　　固相反應是指兩種或多種化學物質在高溫環境下發生化學反應，最終形成新的固態產物的方法。真空高溫爐可以提供高溫、真空和惰性氣氛等條件，有利于反應的進行。固相反應通常用于制備無機非金屬材料或者有機材料，廣泛應用于光電子、半導體、光催化等領域。

　　三、化學蒸汽沉積

　　化學蒸汽沉積是一種化學氣相沉積技術，利用氣態前體將金屬或者非金屬元素沉積在襯底上制備薄膜。真空高溫爐可以提供高溫和真空條件，控制反應溫度、沉積速率和成分等參數，有利于薄膜生長的控制和優化。化學蒸汽沉積廣泛用于光電子、半導體、納米材料等領域，制備各種新穎的薄膜材料。

　　四、其他應用

　　除了上述應用領域外，真空高溫爐還可用于退火、晶體生長、熱解、熱壓、氧氣捕捉等實驗研究。退火是指將材料在高溫下保溫一段時間，使其原子重新排列形成能量的狀態，從而改變材料的性能和組織結構。晶體生長是指在高溫下以特定的條件生長單晶體，主要用于半導體、光學等領域。熱解是指用高溫將有機物質分解，用于制備各種碳材料。熱壓是指在高溫下將材料壓縮成各種形狀的坯料，用于制備各種精密部件。氧氣捕捉是指利用高溫將氧氣分離出來，用于制備氧化物。

　　總之，真空高溫爐是一種功能強大的試驗設備，有廣泛的應用領域。它可以提供高溫、真空、惰性氣氛等條件，用于進行高溫處理、熱處理、熔煉、固相反應、化學蒸汽沉積、薄膜制備等實驗研究。真空高溫爐的應用不僅促進了材料科學、化學、物理、機械、電子等領域的發展，而且為新材料的制備和應用提供了有力的支撐。

真空高溫爐參數：