真空高溫爐

　　一、概述

　　真空高溫爐是一種高溫反應器，主要用于熱處理、熔煉、制備、燒結等。通常由爐體、加熱器、真空系統、氣體流動系統、溫度控制系統、監測系統等組成。此爐具有高溫、真空、微觀控制、無污染等特點，廣泛應用于化工、材料、生命科學和航天等領域。本文將介紹真空高溫爐的技術知識，包括爐體、加熱方式、真空系統、氣體流動控制、溫度控制以及爐體結構等。

　　二、爐體

　　爐體是真空高溫爐的主要部分，它通常由爐體殼、爐膛和加熱元件組成。

　　（一）爐體殼

　　爐體殼是爐體的外殼，通常使用高溫合金鋼制成，耐高溫、不易變形。爐體殼的壁厚度應能承受爐內的壓力差，以保證真空度不受影響。爐體殼還應具有良好的散熱性能，以避免過熱或爐體失穩。

　　（二）爐膛

　　爐膛是爐體的加熱區域，通常由高溫材料制成，如鉬、石墨、陶瓷等。這些材料都具有高溫強度、熱膨脹系數小等特點。爐膛的內部應平整光滑、無毛刺、無裂縫等缺陷，以保證加熱的均勻性和穩定性。同時，爐膛的內部表面還應具有良好的耐腐蝕性能，以便進行各種化學反應。

　　（三）加熱元件

　　加熱元件是爐體的主要加熱部分，它能夠將電能轉換為熱能，將爐膛加熱到設定溫度。通常使用的加熱元件有電阻絲、電熱板、電加熱管等。其中，電阻絲是應用泛的一種，它具有結構簡單、容易制造、功率調節范圍廣等優點，但是使用壽命較短。電熱板具有熱慣性小、加熱速率快等特點，但是成本較高。電加熱管具有高效率、能量消耗少等優點，但是維護成本較高。

　　三、加熱方式

　　真空高溫爐的加熱方式主要分為輻射加熱、對流加熱和輻射對流復合加熱三種。

　　（一）輻射加熱

　　輻射加熱是指利用能夠產生輻射的加熱元件，將輻射能直接照射到被加熱物體上，使其加熱。這種加熱方式具有加熱速度快、表面溫度均勻等優點，但是由于被加熱物體長時間處于高溫狀況下，容易導致結構變形和氧化等問題。

　　（二）對流加熱

　　對流加熱是指通過氣流或液流將熱量傳遞給被加熱物體，使其加熱。這種加熱方式具有加熱效率高、能耗低等優點，同時也可以實現對被加熱物體局部加熱。但是由于對流傳熱需要介質傳遞熱量，因此加熱速度較慢。

　　（三）輻射對流復合加熱

　　輻射對流復合加熱是指將輻射加熱和對流加熱相結合，充分利用兩種加熱方式的優點，減少缺點。該加熱方式具有加熱速度快、加熱均勻、能耗低等優點，被廣泛應用于高溫反應器中。

　　四、真空系統

　　真空系統是真空高溫爐的核心部分，它可以維持爐體內部的真空狀態，使被加熱物體免受空氣、氧化和污染等。真空系統通常包括機械泵、分子泵、閥門、真空儀器等。

　　（一）機械泵

　　機械泵是真空系統中的一種重要設備，它可以通過機械運動將氣體抽出爐體，維持爐內的真空狀態。機械泵可以分為旋轉翼泵、滑動翼泵、游離干式泵等多種類型。

　　（二）分子泵

　　分子泵是一種高真空泵，它可以將氣體抽出至$10^$Pa的超高真空狀態。分子泵利用分子的碰撞與反彈的特性，強制將氣體分子推向一端，從而實現在大氣壓力下的抽氣作用。

　　（三）真空儀器

　　真空儀器通常用于檢測爐體內部的真空度，包括熱電偶真空計、離子計、擴散泵等。熱電偶真空計可用于檢測$10^$至$10^$Pa范圍內的真空度，離子計可用于檢測$10^$至$10^$Pa范圍內的真空度，擴散泵可用于在低壓力下將氣體排出真空室。

　　五、氣體流動控制

　　氣體流動控制是指控制氣體在爐內的流動速度和方向，以實現氣體的加注和排放。氣體流動控制包括氣體進出口、流量計、溫度計、壓力控制器等。

　　（一）氣體進出口

　　氣體進出口通常位于爐體中部或底部，可以通過閥門控制氣體的進出。氣體進出口還可以與流量計等設備連接起來，以實現對氣體流量的實時監測。

　　（二）流量計

　　流量計是氣體流動控制中的重要設備，它可以對氣體流量進行精確測量和控制。流量計分為質量流量計和體積流量計，可以根據需要選擇不同類型的流量計。

　　（三）溫度計

　　溫度計用于檢測氣體的溫度，以便實現溫度的控制和調節。溫度計包括熱電偶、熱電阻等，可以根據需要選擇不同類型的溫度計。

　　（四）壓力控制器

　　壓力控制器用于控制爐體內部的氣體壓力，以便將氣體保持在所需的壓力范圍內。壓力控制器通常由壓力傳感器、自動控制器、閥門等組成，可以自動控制氣體的加注和排放。

　　六、溫度控制

　　高溫反應器中的溫度控制是實現反應過程的關鍵之一，它可以控制反應的速率、選擇性和產物分布等。溫度控制主要分為一次控制和多點控制兩種。

　　（一）一次控制

　　一次控制是指只使用一個溫度傳感器和控制系統來控制整個爐體的溫度。這種控制方式簡單易行，但是無法保證整個爐體內部溫度的均勻性。

　　（二）多點控制

　　多點控制是指在爐體內部分別安裝多個溫度傳感器，并使用專門的控制系統來實現控制。這種控制方式可以實現對爐體內部不同區域的溫度進行獨立控制，從而保證反應的均勻性和可重復性。

　　七、爐體結構

　　爐體結構主要包括開放式爐體和封閉式爐體兩種。

　　（一）開放式爐體

　　開放式爐體是指爐膛與外界直接相連，氣體可以自由進出，通常用于氧化、還原和催化反應等。該爐體結構簡單，加工和維護成本較低，但是氧化問題比較嚴重。

　　（二）封閉式爐體

　　封閉式爐體是指爐體與外界隔離，可以通過氣體進出口控制氣體流動。封閉式爐體通常用于高溫下劇烈反應或易揮發物質的加熱，防止氧化和污染。該爐體結構較復雜，加工和維護成本較高。

　　八、總結

　　真空高溫爐是一種高溫反應器，具有高溫、真空、微觀控制、無污染等特點，廣泛應用于化工、材料、生命科學和航天等領域。其技術知識主要包括爐體、加熱方式、真空系統、氣體流動控制、溫度控制以及爐體結構等，不同應用場合可以根據具體需求選擇不同的加熱方式和溫度控制方式。

真空高溫爐參數：